-
ISOLUTE® PLD+
瑞典Biotage公司zei新开发的 ISOLUTE® PLD+ 内有除磷脂填料,可以快速去除基质复杂样品中99%的蛋白和磷脂对于生化样品制备来说,使用ISOLUTE® PLD+较传统蛋白沉淀技术
-
脉冲激光沉积(PLD)/大面积PLD/涂层带PLD系统
-
Pioneer 180 MAPLE PLD System激光脉冲沉积(PLD)Neocera
产品简介基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是一种基于PLD的技术变体。NRL集团引入了这项新技术,用于促进某些功能有机材料的薄膜沉积。与传统的UV(5-6eV) PLD技术相比,MAPLE中的光化学
-
激光脉冲沉积系统(PLD)
deposition in oxygen atmosphere -铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积技术参数: 腔形状 : 球面型 样品尺寸 : ~ 2inch, 单片 wafer 加热
-
脉冲激光沉积系统(PLD)
-
脉冲激光沉积系统(PLD)
仪器简介: PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法
-
脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD Pioneer 180 MAPLE PLD SystemNeocera
产品简介基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是脉冲激光沉积(PLD)的一种变体。这是NRL集团引入的新技术,旨在促进某些功能有机材料的薄膜沉积。在传统的UV(5-6eV)PLD技术中,光化学
-
Pioneer 180 MAPLE PLD SystemNeocera脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
产品简介基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团新引入的技术,以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV(5-6eV)的传统PLD技术中,光化学反应可能会恶化有机分子
-
GSL-450-PLD激光镀膜设备
可以非常容易的连续融化多个材料,实现多层膜制备;3、可以通过控制激光能量和脉冲数,精密的控制膜厚;4、易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性;5、沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低
-
GSL-300-PLD激光镀膜设备
可以非常容易的连续融化多个材料,实现多层膜制备;3、可以通过控制激光能量和脉冲数,精密的控制膜厚;4、易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性;5、沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net